光触媒と放電プラズマを併用したNO_X除去プロセスにおける吸着の影響

抄録

光触媒と放電プラズマの併用プロセスがNO_X除去に対して有効であることは，多くの文献で示されている。併用プロセスにおけるNO_Xの除去は，放電プラズマおよび光触媒によるNO_Xの酸化と，光触媒へのNO_X吸着が作用する。後者に関して，プラズマによる吸着されたNO_X脱着の可能性が報告されていることから，さらなる調査が必要である。また，NO_Xの光触媒への吸着や脱着に関する知見は，反応場に設置する触媒担体構造や形状の最適化において重要である。本研究では，この現象に着目し，吸着や脱着が併用プロセスにおけるNO_X除去に及ぼす影響の調査結果を報告する。