PLD法を用いた高抵抗Fe系軟磁性材料の作製

抄録

駆動周波数の増加を利用した電子機器の小型化が進む中，その内部に使用される高周波対応の軟磁性材料の開発が進められており，その一つの候補としてスパッタリング法を用い作製した数100 nm厚のCo-Fe-Si-Oグラニュラー/SiO2積層膜が報告されている。本報告では，上記の膜をパワーデバイス用としての利用を鑑み，PLD法を用いた厚膜化を検討した。具体的には、Fe-Coバルク材料の一部をガラスで覆ったターゲットを回転させながらレーザを照射することにより、Fe-Coとガラス（SiO2）を同時に成膜することで、グラニュラー膜の厚膜化を最初に検討したので報告する。