PLD法に二段階熱処理を用いた際のNd-Fe-B系異方性厚膜磁石の磁気特性と結晶構造に関する検討

抄録

　近年、電子機器の小型化に伴う永久磁石の薄手化を鑑み、成膜手法で作製する厚膜磁石が用いられている。異方化と厚膜化の両立には、「２ステップ熱処理(成膜時の低温基板加熱＋成膜後の熱処理)」が有効である事が知られ、国内外で導入されてきた経緯がある。既に我々は1.2 mmまでのNd-Fe-B系磁石膜の厚膜化をPLD(Pulsed Laser Deposition)法により実現している。本研究では，異方性厚膜磁石の作製を鑑み，PLD法を用いた２ステップ熱処理を試みた。具体的には，低温成膜時の基板温度を変化させた際のNd-Fe-B系厚膜磁石の磁気特性や結晶構造について検討した。