レーザー生成スズプラズマからのEUV光放射のレーザー強度依存性

抄録

集積回路の高性能化に重要な光リソグラフィでは、現在は波長13.6nmのEUV光が利用されており、既に実用レベルのEUV露光装置も供給されている。しかしながら、今後の更なる利用に向けて、高出力化、光源の小サイズ化、集光鏡へのデブリ堆積抑制など、解決すべき問題を抱えている。本研究では標準レーザー生成プラズマEUV光源システムを構築し、系統的な実験とシミュレーションにより上記問題の解決を目的としている。ここでは、Nd:YAGレーザー基本波のSn平板ターゲットへの照射によるEUV光発生システムにおいて、EUV光放射とその諸量の動特性の測定を行ったので報告する。