半導体露光装置内ウエハステージ用高推力リニア同期モータの推力リップル率のポールピッチ依存性

抄録

半導体製造工程において用いられる半導体露光装置はウエハステージが露光光源に対して相対的に移動することにより走査状に露光が実行される。先行研究ではこのウエハステージの動力として加速度100Gで動作する永久磁石リニア同期モータ(PMLSM)の設計を行った。しかし、現行モデルのPMLSMは推力リップル率が高く、精密な位置決め精度が求められる半導体露光装置内ウエハステージへの使用には推力安定性の向上が必要不可欠である。本研究では、現行モデルのポールピッチを変化させることで推力リップル率が低減可能であることを示し、オープンループ制御した場合の位置決め精度について検証した。