園芸学会雑誌
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窒素施肥曲線を用いたキクのNFT栽培におけるリンの施用レベルが生育と切り花品質に及ぽオ影響
島 浩二, 景山 詳弘, 小西 国義
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1996 年 65 巻 2 号 p. 355-361

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抄録
秋ギク'秀芳の力'11月咲き切り花栽培において,NFT栽培により窒素施肥曲線に基づいて施肥した窒素に対するリンの適切な施用割合を検討した.窒素施用量の6,12,18,24%のリンを施用した区,ならびに窒素の12%のリン施用割合で窒素濃度を200ppm(リン濃度は24ppm)に維持する区を設けた.
リン6%施用では,軽度のリン欠乏症が発現し,シュートの伸長速度が遅く,切り花長は短くなった.リン12%施用では正常に生育し,品質の良い切り花が得られた.リン18%および24%施用では,生育初期からシュートの伸長速度が遅く,切り花長は短くなった.また,葉の黄変するリンの過剰症状を示した.濃度維持区では栄養生長が盛んで茎葉が過繁茂となり,切り花としての鑑賞価値は低下した.
以上から,NFT栽培における窒素施肥曲線を用いた窒素に対するリンの施用割合は,100:12が最適であり,施用量にして切り花1本(65.5g)当たり,窒素400mg:リン48 mgとなる.
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