光ナノインプリント技術

精密工学会誌

Online ISSN : 1882-675X
Print ISSN : 0912-0289
ISSN-L : 0912-0289

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光ナノインプリント技術

廣島洋

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キーワード: UV nanoimprint, nanoimprint lithography, bubble defect, residual layer, pentafluoropropane, capacity-equalized mold

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2010 年 76 巻 2 号 p. 148-151

DOI https://doi.org/10.2493/jjspe.76.148

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