精密工学会誌
Online ISSN : 1882-675X
Print ISSN : 0912-0289
ISSN-L : 0912-0289
解説
半導体デバイスの成膜技術
柴田 哲弥
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キーワード: film formation, batch, single, semi batch, CVD, ALD, PVD, coating, diffusion, plating
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2025 年 91 巻 7 号 p. 763-766

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