抄録
近年,環境や景観性向上の観点から,グランドカバープランツを利用した雑草発生抑制対策が行われている。しかしながら,苗だけを地山に植栽する工法や,防草マットを敷設した後,マットに切れ込みや開口部を設けて植栽する工法は,苗の間やマットの隙間から雑草が発生するため,導入植物による全面被覆が行われるまでは,こまめな除草管理が必要となる。当社では,この問題を解決するため,雑草の発生を抑制しながらグランドカバープランツによる緑の景観を形成する除草軽減型の緑化工法「BOSOシステム」を開発した。雑草抑制効果を主体とする検証試験を行った結果,BOSOシステムは,従来工法に比べ,雑草抑制効果が高いことが確認された。