抄録
マルチテクニックX線光電子分光法（XPS）に搭載した低エネルギー逆光電子分光法（LEIPS; low energy inverse photoelectron spectroscopy）と紫外光電子分光法（UPS）を用いて，有機EL材料の電子親和力およびイオン化ポテンシャルの評価を行った．CuPc（Cu phthalocyanine）薄膜（10 nm）/ITO（indium tin oxide）膜/ガラス基板，C60薄膜(10 nm)/Au膜/ITO膜/ガラス基板およびα-NPD（Bis[N-(1-naphthyl)-N-phenyl]benzidine）薄膜（10 nm）/ITO膜/ガラス基板の3種類について，LEIPSを用いてLUMO（lowest unoccupied molecular orbital）準位（最低空準位）を，UPSを用いてHOMO（highest occupied molecular orbital）準位（最高被占準位）を，それぞれ算出し各材料表面のバンドギャップを決定した．さらに，アルゴンガスクラスターイオン銃（Ar-GCIB; argon-gas cluster ion beam）を用いる事で有機EL積層膜の深さ方向に対するLUMOおよびHOMOの評価も可能であることを示した．
