非晶質Zr-Ge-N層上への金属堆積による低抵抗Geコンタクトの形成

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第64回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 17a-E206-2

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2017.1.0_2990

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 64

開催地: パシフィコ横浜

開催日: 2017/03/14 - 2017/03/17

非晶質Zr-Ge-N層上への金属堆積による低抵抗Geコンタクトの形成

*岡本隼人, 山本圭介, 王冬, 中島寛

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キーワード: 17a-E206-2, 半導体, Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術, ゲルマニウム, コンタクト抵抗, 金属/半導体接合

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