Amorphous-SiO<sub>2</sub>中の金属原子が示す化学的傾向

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第78回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 5p-C11-10

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2017.2.0_2868

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 78

開催地: 福岡国際会議場

開催日: 2017/09/05 - 2017/09/08

Amorphous-SiO₂中の金属原子が示す化学的傾向

*宮島岳史, 白川裕規, 洗平昌晃, 白石賢二

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キーワード: 5p-C11-10, 半導体, 絶縁膜技術, 理論／シミュレーション, 絶縁体, 二酸化ケイ素, 第一原理計算

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