VO<sub>2</sub>/TiO<sub>2</sub>:Nb接合界面を活用したVO<sub>2</sub>薄膜の仕事関数の評価

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第80回応用物理学会秋季学術講演会

セッションID: 18p-E311-11

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2019.2.0_1492

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会秋季学術講演会

回次: 80

開催地: 北海道大学札幌キャンパス

開催日: 2019/09/18 - 2019/09/21

VO₂/TiO₂:Nb接合界面を活用したVO₂薄膜の仕事関数の評価

*村岡祐治, 壽賀友貴, 脇田高徳, 横谷尚睦

著者情報

キーワード: 18p-E311-11, 薄膜・表面, 酸化物エレクトロニクス, 薄膜、界面、ヘテロ構造, VO2薄膜, 仕事関数, ヘテロ接合

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