Si(110)基板上への組成傾斜SiGe層形成法に関する研究

応用物理学会学術講演会講演予稿集

Online ISSN : 2436-7613

第68回応用物理学会春季学術講演会

セッションID: 17p-Z33-6

DOI https://doi.org/10.11470/jsapmeeting.2021.1.0_2658

会議情報

主催: 公益社団法人応用物理学会

会議名: 応用物理学会春季学術講演会

回次: 68

開催地: オンライン開催

開催日: 2021/03/16 - 2021/03/19

Si(110)基板上への組成傾斜SiGe層形成法に関する研究

*堀内未希, 斎藤慎吾, 原康介, 山中淳二, 有元圭介

著者情報

キーワード: 17p-Z33-6, 結晶工学, IV族結晶，IV-IV族混晶, 結晶成長, 結晶成長, 歪みシリコン, シリコンゲルマニウム

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