イオンプレーティング法によるTbFex超磁歪薄膜の作製
Kensuke YAMAMOTO, Tomotaka SUMI, Yoshiki DOUDA, Masamoto ONO, Yoshihito MATSUMURA, Hirohisa UCHIDA
著者情報
1999 年 11 巻 2 号 p. 96
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1999 年 11 巻 2 号 p. 96
The ion-plating is used as a film formation process with a high deposition rate in many mass production process. In this study, we investigated the formation of giant magnetostricive TbFe2 thin film by ion-plating process.
