光透過率測定によるCMC-Na添加研磨液の砥粒沈降性評価と同研磨液の研磨特性評価

抄録

粒径の大きな砥粒は液中での沈降速度が速いため，遊離砥粒研磨においては研磨面に砥粒を供給し難いことがある．そこで研磨液にカルボキシメチルセルロ-スナトリウム（CMC-Na）を添加することで，粒子の沈降が抑制され，研磨性が向上すると期待できる．本研究では，CMC-Na水溶液中の砥粒の沈降特性を調べるために，光透過率測定装置を試作した．同装置を用い，CMC-Na 0~1.0wt%の水溶液に対して，緑色炭化けい素（GC）砥粒#600を混合して，光透過率の経時変化から沈降特性を調べた．その結果，CMC-Na濃度の増加とともに，光透過率上昇が遅くなった．すなわち，砥粒の沈降速度が低下することが示された．さらに，CMC-Na を1.0wt%添加したGC砥粒#600研磨液を用いて，アクリル樹脂製平板を液中で局所研磨した．その結果，CMC-Na を添加することにより，除去速度が向上することがわかった．