抄録
我々は蘚苔類の乾燥耐性機構を調べるため、異なる水環境に生育する数種の蘚苔類を用いて水分含量変化に伴う光合成諸活性の変化を調べてきた。その結果、乾燥耐性種は乾燥により光合成活性が失われた際、光化学系II反応中心(PSIIRC)活性も失われること、一方非乾燥耐性種は、光合成活性が失われた後もしばらくPSIIRC活性が残っていることが明らかになった。また、乾燥耐性種ではPSIIRCの失活と関連してPSII蛍光の特異的消光が観察された。乾燥時においてこれらの機構は光合成系の保護に重要であり、光阻害からの防御に役立っているといえる。
光阻害からの防御メカニズムとしては、キサントフィルサイクルという機構が知られており、蘚苔類もこのメカニズムにより強光による損傷から光化学系を保護している事が知られているが、乾燥耐性種であるギンゴケにキサントフィルサイクル阻害剤であるジチオスレイトールを作用させると、光誘導性の非光化学的消光(NPQ)は大きく阻害されたが、乾燥誘導性のNPQの阻害はほとんど見られなかった。さらにHPLCによる色素分析から、乾燥に誘導されるNPQはキサントフィル色素の転換を必要としていないことが判明した。
また、乾燥耐性種であるギンゴケを液体培養したものは乾燥耐性が弱くなっており、蛍光にも変化が見られたので、その差についても報告する。
