放射線化学
Online ISSN : 2188-0115
ISSN-L : 0286-6722
特集記事（EUV）：　EUVリソグラフィ用レジストの増感とラフネス改善へのアプローチ
永原 誠司
著者情報
ジャーナル オープンアクセス

2018 年 106 巻 p. 3-

詳細
PDFをダウンロード (442K)
メタデータをダウンロード RIS形式

(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)

BIB TEX形式

(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)

テキスト
メタデータのダウンロード方法
発行機関連絡先
抄録
放射線化学の応用技術として，EUVリソグラフィ用レジスト材料が先端半導体デバイスの量産で使われようとしている．EUVレジストに関して重要な課題として残っているのは，レジストの高感度化によるEUVリソグラフィのコストの削減と，フォトンや化学物質濃度のショットノイズの影響でレジストの寸法がばらつくことの抑制である．本稿では，レジストの寸法ばらつきを含むリソグラフィ性能を維持しつつ感度を上げる手法として，光増感化学増幅型レジスト（PSCARTM）技術を紹介する．
著者関連情報
© 2018 日本放射線化学会
【複写をされる方に】本誌に掲載された著作物を複写する場合は、著作権者から複写権の委託を受けている一般社団法人学術著作権協会（〒107-0052 東京都港区赤坂9丁目6-41乃木坂ビル2階、電話 03-3475-5618、E-mail: info@jaacc.jp）から許諾を受けてください。ただしアメリカ合衆国における複写については、Copyright Clearance Center Inc.（222 Rosewood Drive Danvers, MA 01923, TEL: +1 978 750 8400, E-mail: info@copyright.com）へ。
https://www.jaacc.org/
前の記事 次の記事
お気に入り & アラート

閲覧履歴
このページを共有する
feedback
 Top