Journal of UOEH
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酸化エチレン滅菌におけるガスの有効濃度
保利 一三浦 義正小嶋 暁美
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1989 年 11 巻 4 号 p. 481-486

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抄録
酸化エチレンガス滅菌に使用されているガスは, 二酸化炭素やフロンなどとの混合ガスである. これらのガスは高圧容器(ボンベ)に充塡され, 液化ガスとして供給される. このガスの使用条件および滅菌機内のガス濃度を把握することは確実な滅菌を行う上で重要である. そこで, ガス滅菌に広く使用されている酸化エチレン20%, 二酸化炭素80%の混合ガスについて, 滅菌時に使用するガスの量をボンベの重量変化から計測するとともに, 滅菌機内のガスの濃度を経時的に調べた. 滅菌機内の酸化エチレンの濃度は使用量とともに高くなり, ボンベ内のガスの組成が変化することが認められた. また, ボンベ内に充塡されているガスのうち,最後の約12%は酸化エチレンの濃度が極端に低くなるため, 滅菌には使用できないことがわかった. この使用不能なガスの量は, 液がすべて気化した場合のボンベ内のガスの量に一致し, 気液平衡関係から, 使用回数, 使用量などボンベ内のガスの使用可能な条件を予測できることが示された.
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© 1989 産業医科大学
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