化学工学論文集
Online ISSN : 1349-9203
Print ISSN : 0386-216X
ISSN-L : 0386-216X
CVDによるNiO/SiO2粒子生成過程に与える水蒸気の効果
大井 浩, 西川 貴志, 矢野 元威
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1993 年 19 巻 6 号 p. 1113-1119

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抄録

NiCl2 と SiCl4を同時に酸化反応させNiO/SiO2粒子を調製するとき, NiCl2からNiOへの変化率は低い.そこで水蒸気を酸化促進剤として添加すると, 生成粒子中のNiCl2は減少する.この反応の機構を熱力学的に調べ, sheme 2で進行する事が明らかとなった.また, 水蒸気の添加はNiOとSiO2との相互作用を強める事をTPR (昇温還元) から明らかにした.

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