北海道大学大学院工学研究科物質工学専攻
1999 年 25 巻 6 号 p. 973-978
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本研究では, Stöber法による単分散シリカ粒子の合成について, 管型反応器を用いて連続合成を行なった.その際, 滞留時間分布を狭くするため, 窒素ガスにより反応流体を微小区画に分割し, 流動させた.その結果, 粒子径分布幅の狭い粒子の連続合成を行なうことが可能になった.また, 粒子の成長過程においてTEOSモノマーを多段階で添加することにより, 粒子の成長速度を高めることができた.
化学機械
化学工学
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