ホスト-ゲスト連結型擬ロタキサンをモノマーに用いた高被覆共役ポリマーの合成

抄録

本研究では、2つのメチル化シクロデキストリンが連結された共役モノマーにおいて、このモノマーの両端で2ヶ所同時に自己包接することによりhost/guset=2/1の分子内包接体が生成することを利用し、この擬ロタキサンモノマーを重合させることにより高被覆、高溶解性被覆共役ポリマーを合成する手法を開発した。本手法により得られたポリマーは1.シクロデキストリンの包接位置・配向が一義的に決定でき、2.メチル化シクロデキストリンに包接されているため、THF・酢酸エチル・クロロホルムなどの各種有機溶媒に対しての溶解性が高く、3.極めて高い被覆率を有し、4.ポリマーの直線性も向上することから、分子デバイスにおける有機配線材料、有機EL・PL材料としての応用が期待される。