高分子化學
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ハロゲン分子存在下におけるトリオキサンの液相重合
嘉悦 勲伊藤 彰彦林 晃一郎
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1971 年 28 巻 311 号 p. 230-237

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抄録

ハロゲン分子存在下におけるトリオキサンの液相重合を検討し, ヨウ素存在下においては, 光または放射線を照射する場合のみトリオキサンの液相重合が起こり, 臭素および塩素存在下においては照射を行なわない場合にも熱的にトリオキサンの重合が起こる事実を認めた.
重合速度は, 臭素>ヨウ素>塩素の順で大きく, 塩素存在下においては重合収率は低収率で飽和する傾向が認められた. 溶媒の添加は重合速度を著しく低下させた. ラジカル禁止剤およびカチオン禁止剤はいずれも顕著に重合を, 禁止または抑制した. 前照射したヨウ素をトリオキサンに添加してもトリオキサンとヨウ素を同時照射する場合のような重合速度は得られなかった.
種々の実験結果より, 重合はハロゲンラジカルとトリオキサンとの電荷移動錯合体によって開始されるものと推定した.

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