半導体製造での誘導自己組織化(directed self-assembly; DSA)リソグラフィ法における相の形成に関して, 新素材となる高分子のモデルを提案する為に, 散逸粒子動力学(dissipative particle dynamics; DPD)法による閉じ込め系において, ジブロック共重合体の相分離に関する研究を行った. 実在するジブロック共重合体を用いた, DSA リソグラフィの実験をモデルとしたDPD シミュレーションを行い, 定量的に相分離を再現するための研究を行った. 本研究ではU 字溝型の系においてシミュレーションの粗さと結合強度係数による相の数の依存性を調べ, 見積もったパラメータが円筒型の系においても実験と同様の結果を得られることを示した.
