古くて新しいフェノール樹脂を用いた 柔軟性をもつフォトレジスト材

──クレゾールノボラック樹脂編──

抄録

ポジ型フォトレジストから形成されるドライフィルムは，膜質が脆く柔軟性に欠けるため，それをロール状の製品とすることに難点がある。これを解消するため，柔軟性と高精度なリソグラフィ性能を有するクレゾールノボラック樹脂についてまとめる。クレゾールノボラック樹脂に，柔軟性を付与するための分子構造をイメージすると，ⅰ）自由連結鎖をもつアルデヒド成分の導入，ⅱ）側鎖構造をもつアルデヒド成分の導入，ⅲ）嵩高いアルデヒド成分の導入などが考えられる。具体的には，ⅰ）グリオキザール（アルキル鎖長（x）＝0），スクシンアルデヒド（x＝2），グルタルアルデヒド（x＝3），あるいはアジポアルデヒド（x＝4）などのアルキル鎖をもつジアルデヒドの導入，ⅱ）ブタナールなどの導入，そして，ⅲ）単糖から誘導された5- ヒドロキシメチルフルフラール（HMF）などの導入が挙げられる。これらの中で，剛直な複素環成分で嵩高い分子構造をもつHMF が，極めて高い柔軟性を示した。