アクリル酸ダイマービスマス錯体のラジカル重合による透明X 線遮蔽性材料の合成

抄録

トリフェニルビスムチンとアクリル酸ダイマーである2-カルボキシエチルアクリレート（2CEA）の反応により，重合性のカルボン酸ビスマス錯体（BiCEA）と2CEA の液状の混合モノマーを調整し，その直接光硬化を行ったところ，透明で可視光透過性が高いpoly（BiCEA-co-2CEA）の架橋フィルムが得られた。ポリマー中のビスマス含量は最大30.7 wt% であった。屈折率（n_D）はビスマス含量とともに向上し，最大で1.58 であった。また，X 線遮蔽性は軽金属であるアルミニウムよりも高く，簡便に合成できる透明なポリマー材料としては優れていた。