2025 年 46 巻 5 号 p. 246-255
ベンゾフェノン(BP)基を有するシルセスキオキサン(BP-SQ)を(4-アリルオキシ)ベンゾフェノンと(3-メルカプトプロピル)トリメトキシシランとのチオール- エン反応,およびアルコキシシラン基の加水分解・重縮合反応により合成した。このBP-SQ 塗膜表面上ではN-イソプロピルアクリルアミド(NIPAM)モノマーの光グラフト重合が進行し,poly(NIPAM)による表面化学修飾を達成することができた。また,光グラフト過程中に塗膜内部のBP 間の光2 量化などによる分子内架橋が形成されることで,当該SQ 膜が硬質化することを見出した。