抄録
フォトレジストによるリソグラフィー技術は, 現在の電子産業を支える重要な技術で, 特に半導体や液晶表示画面 (LCD) の製造において, フォトレジストは, 重要な光機能材料である。フェノール樹脂 (ノボラック樹脂) は, フォトレジストの特性を左右する重要な役割を担うベース樹脂として使用されており, 電子産業を支える樹脂として活用されている。本総説では, フォトレジストに活用されているフェノール樹脂について, いままでに報告された報文及び特許について調査・整理した内容を中心に報告する。また, フォトレジスト用樹脂として重要な特性項目である不純物及び分子量バラツキに関し, ppbレベルの低金属不純物を達成するため, フェノール樹脂製造釜の材質として耐食性の金属材料を適用した結果や品質安定のため, 分子量バラツキの少ないフェノール樹脂の製造方法についても紹介する。
