総合報告
集束イオンビームによる三次元ナノテクノロジーの展開
2004 年 73 巻 4 号 p. 445-454
詳細
2004 年 73 巻 4 号 p. 445-454
集束イオンビーム励起表面反応を用いた立体ナノ構造形成技術は，①集束イオンビームのビーム径が5nmまで収束可能であるので，三次元CADデータを用いて，数十nmレベルの立体ナノ構造形成が可能である．②ソースガスを変えることにより，金属，半導体，絶縁体など多種の材料で三次元ナノ構造形成が可能である．集束イオンビームを用いた三次元ナノテクノロジーは，エレクトロニクス，メカニクス，オプテイクスからバイオテクノロジーまで広範囲にわたるナノテクノロジーの中核技術として期待されている．これらの特徴を有する立体ナノ構造造形技術を利用することにより，これまで実現できなかった空中配線技術，静電ナノアクチュエーター，バイオインジェクターおよび静電ナノマニピュレーターなどの立体ナノツールを非常に簡便なプロセスで作製することに成功した．
