ディスプレイや太陽電池において多用されるプラズマ励起化学気相成長装置では，基板の大型化や生産コスト削減のために大面積対応が求められているが，装置大型化に伴うさまざまな課題が顕在化している．一方，触媒化学気相成長法(Cat-CVD法)は装置構造が比較的単純で高融点金属触媒線を大面積配置することで大面積対応が可能であり，ガス利用効率も高い成膜技術であることから生産装置への応用が期待されている．ここでは，大面積触媒(Cat)CVD装置開発において装置大型化に伴う技術課題について検討，また，試作した縦型両面成膜方式大面積Cat-CVD装置の成膜性能について述べる．
