最近の展望
触媒化学気相堆積（Cat-CVD）法の現状と今後の展望
2008 年 77 巻 3 号 p. 291-295
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2008 年 77 巻 3 号 p. 291-295
新しい薄膜形成法である触媒化学気相堆積（Catalytic Chemical Vapor Deposition : Cat-CVD）法の製膜原理と特長を簡単に述べ，これにより作られる薄膜とその特性を紹介する．また，この方法で発生する高密度水素原子を用いる新しいプロセス技術を，堆積された薄膜自体の最近の応用例とあわせて報告，このCat-CVD技術が，広い産業分野へ応用範囲を広げていく様子を示し，この技術の将来を展望する．
