名古屋大学工学研究科
2010 年 79 巻 10 号 p. 915-919
(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)
(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)
CNT電界効果トランジスタに関して,コンタクト金属の仕事関数とトランジスタの導電型との関係,F4TCNQ を使ったケミカルドーピング,プラズマCVDを用いた半導体的振る舞いを示すCNTの優先成長・原因解明と薄膜トランジスタ応用,水平配向成長技術,n型CNT-FET作製技術に関するわれわれの取り組みの一端を紹介する.
すでにアカウントをお持ちの場合 サインインはこちら