応用物理
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Print ISSN : 0369-8009
基礎講座
シリコンフォトニクス―どうやって作るの?
土澤 泰
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2011 年 80 巻 11 号 p. 994-998

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抄録

シリコンフォトニクスで用いられる光回路は,Si細線導波路と呼ばれるコア幅が500nm程度と非常に小さいSiコアとSiO2クラッドからなる導波路で構成される.その作製には電子デバイス用に開発されたSi加工技術を応用することができるが,ナノメートルレベルの形状誤差でさえも最終的なデバイス特性に大きな影響を与え,また加工面の微小な凹凸も散乱損失の要因となるため,実用的な特性を得るには高度な加工技術が求められる.本稿では,厳しい加工精度を必要とするSi細線導波路の製作方法について述べる.

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© 2011 公益社団法人応用物理学会
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