ローム(株)先端化合物研究開発センター
東京大学大学院工学系研究科 東北大学原子分子材料科学高等研究機構 科学技術振興機構CREST
2011 年 80 巻 4 号 p. 314-318
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酸化亜鉛(ZnO)系ヘテロ接合を分子線エピタキシー法で成長し,紫外発光ダイオードを作製した.薄膜の高純度化・高品質化のため,ZnO基板の清浄化,基板ホルダ材料の選定,基板温度計測方法の確立などに注意を払った.窒素ドープ源としてアンモニアを,ZnO基板としてZn極性面を採用することで,ワイドギャップ(MgZn)Oのp型化に成功し,30mAの注入電流で70μWに達するバンド端近傍の紫外(380nm)発光を得た.
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