応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
基礎講座
薄膜作製のイロハ,真空蒸着法とスパッタリング法
石井 清
著者情報
ジャーナル 認証あり

2011 年 80 巻 7 号 p. 626-630

詳細
抄録

原子や分子の堆〔たい〕積〔せき〕による薄膜作製技術は,電子デバイスや電子機器,光学部品などのさまざまな産業分野において不可欠な技術であるとともに,未知の物質の合成を可能にする大きな魅力を有している.その最も基本的な技術である真空蒸着法とスパッタリング法について,その原理と特徴を述べる.

著者関連情報
© 2011 公益社団法人応用物理学会
前の記事
feedback
Top