名古屋大学大学院 工学研究科
2012 年 81 巻 1 号 p. 3-14
(EndNote、Reference Manager、ProCite、RefWorksとの互換性あり)
(BibDesk、LaTeXとの互換性あり)
シリコン超々大規模集積回路(ULSI)は,Mooreの法則を指導原理として,スケーリングに基づいた微細化を推し進めることで発展してきた.しかしながら,技術的,コスト的な面から,将来の微細化に対する壁が次第に見え始めており,スケーリングに代わる新しい技術開発指針が求められている.ここでは,微細化に依存することなしにULSIデバイスの高性能化,高集積化,高機能化を実現する技術をポストスケーリング技術として捉え,その現状を将来への期待を含めて概観する.
すでにアカウントをお持ちの場合 サインインはこちら