研究紹介
光機能性材料が開く新しい光応用技術
2013 年 82 巻 1 号 p. 59-62
詳細
2013 年 82 巻 1 号 p. 59-62
光を利用するプロセスは，半導体チップ作成時のフォトリソグラフィーをはじめ，既に数多くの応用がなされ，産業上極めて重要な位置を占めている．我々の研究グループでは，合成化学的な見地から新しい光機能材料の創製を検討し，最近興味深い成果を得つつある．本稿では，その代表例について詳細を紹介するとともに，今後の展開についても言及する．
