応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
研究紹介
スパッタリング成膜法による高品質酸化亜鉛薄膜の形成
板垣 奈穂古閑 一憲白谷 正治
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2014 年 83 巻 5 号 p. 385-389

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抄録

スパッタリング成膜法を用いた酸化亜鉛(ZnO)薄膜の結晶成長において,初期核形成を制御する新しい方法「不純物添加結晶化(Impurity Mediated Crystallization: IMC)法」を開発した.本手法により,高格子不整合基板上への原子レベルで平坦なZnO単結晶膜の作製や,ガラス基板上への極薄低抵抗ZnO導電膜の形成が可能となった.本稿では,IMC法について紹介するとともに,これら成果の概要を述べる.

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© 2014 公益社団法人応用物理学会
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