研究紹介
フォトニック結晶スラブによるテラヘルツ波の操作と応用
フォトニック構造のテラヘルツ帯への新展開
2016 年 85 巻 6 号 p. 490-495
詳細
2016 年 85 巻 6 号 p. 490-495
光の自在な操作を可能にすると期待されるフォトニック構造の中でも，2次元の周期孔を半導体薄膜に形成したフォトニック結晶スラブは，単純な構造にもかかわらず，低損失で強い光の閉じ込めが可能なため，さまざまな応用に向けて有望である．本稿では，電波と光の境界領域の周波数を有するテラヘルツ帯における小型・集積デバイスの開発に向けたシリコンフォトニック結晶スラブによるテラヘルツ波の操作と，その応用に関する研究を紹介する．
