イオン注入と真空蒸着による薄膜合成(IVD法)

応用物理

Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009

イオン注入と真空蒸着による薄膜合成(IVD法)

佐藤守, 藤本文範

著者情報

ジャーナルフリー

1984 年 53 巻 3 号 p. 195-198

DOI https://doi.org/10.11470/oubutsu1932.53.195

詳細

抄録

イオン注入法と真空蒸着法を組み合わせた技術は,新しい表面処理技術および薄膜合成技術として期待されている。この技術の特徴を中心に,将来の利用分野および今後の発展について述べる.

著者関連情報

© 社団法人応用物理学会

お気に入り & アラート

関連記事

閲覧履歴

発行機関からのお知らせ

会員の方へ：PDFファイル閲覧用の購読者番号とパスワードは会員マイページでご確認いただけます。

Top