応用物理
Online ISSN : 2188-2290
Print ISSN : 0369-8009
化合物半導体のランプアニール
神津 英明, 葛原 正明, 高山 洋一郎
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1984 年 53 巻 9 号 p. 794-801

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抄録
イオン注入後アニールの一方法として,ランプアニールが注目されている,この技術を用いたn, n+型およびp+型GaAsの形成方法を中心に,他の化合物半導体への適用,デバイスへの応用,他のプロセス技術への発展などについて述べる.
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© 社団法人 応用物理学会
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