早稲田大学理工学部電子通信学科
1987 年 56 巻 3 号 p. 311-331
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シリサイド/シリコン接触は,シリサイドが金属釣性質を示すという点で,古典的な金属/シリコン接触に近く,界面で化学結合が彩成されているという点では,フェルミ準位のピニングの影響を受けにくいと考えられる.本報告は,シリサイド/シリコン接触のショットキー障壁高さを決める要因を,シリサイドのバルクの性質に由来するものと,界面構造に由来するものとに分類して,それぞれの寄与の程度を論じる.
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