別冊パテント
Online ISSN : 2436-5858
ライセンスに適した特許実務と法律の考察
―ディープテック領域におけるイノベーション保護を中心に―
森田 裕
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2024 年 77 巻 30 号 p. 151-165

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抄録

 特許制度の特徴を生かし、出願人が制度の恩恵を最大限に受けることが、イノベーションの十分な保護につながる。また、特許制度による法律的保護のみならず、ノウハウの秘匿化による原理的な模倣不可能性を担保することもイノベーションの十分な保護には必要である。この観点から、我が国の特許制度及びその運用をどのように変えるとよいかを考察した。

 具体的には、ディープテック領域におけるイノベーション保護に係る特許制度上の課題を論じた上で、特許制度上、最も保護利益の大きな発明の種類とその特徴を特定する。その上で、現在の特許制度における課題とその解決策について論じる。

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© 2024 日本弁理士会
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