超音波減衰法によるセラミックス高濃度スラリーの評価

抄録

超音波減衰法を用いた粒子径分布測定について、異なる粒子径のシリカ球状粒子を用いてその適用性について検討した。X線透過法を基準とした7wt%の低濃度では、粒子径を計算するためのFitting曲線と測定値は良い整合性を示し、超音波減衰法による粒子径分布はX線透過法と良い整合性を示した。10vol%以上の高濃度領域では、20vol%以上でFittingと測定値の大きなずれが認められたが、Structureロスを考慮して計算することによりFittinf errorが減少し整合性が向上することが分かった。高濃度ではStructureロスの様な構造を考慮した解析が必要であることが明らかになった。