ゾルゲル法によるチタニア薄膜の昇温脱離法による焼成プロセスの解析

抄録

本研究は、水酸化チタンからチタニアゲル膜を作製し、その焼成プロセスをTPDにより解析し、Ti(OC₂H₅)₄およびTiCl₄を原材料とした結果と比較検討することを目的とした。チタニアゲル膜の焼成過程において脱離ガスによる幾つかのTPDカーブが観測され、それらはH₂O、NH₃、HClおよびClに帰属された。焼成過程においてH₂Oは190℃以下の温度領域で脱離するので、物理吸着水によるものと考えられる。NH₃(M/z=17)のTPDカーブはゾル液作製過程において残存したNH₄⁺の脱離によるものである。TPDカーブよりHCl(m/z=36)は110℃、135℃および260℃で脱離していることが明らかになった。その他にゲル膜中に残存しているCl(M/z=35)による脱離ピークが50∼1000℃で観測された。