沿面放電支援型CVD法による酸化チタン膜の合成

抄録

大気開放型科学気相析出(CVD)法では色々な酸化物膜を作製することができるが原料の分解に比較的高い反応温度を必要とする。そこで本研究では沿面放電支援CVD法を用いて酸化チタン膜を作製した。作製された酸化チタン膜の評価はFT-IRとRamanで行った。沿面放電支援有りのときは光沢のある膜ができ、沿面放電支援無しのときは粉末が堆積した。IRスペクトルには3500cm^-1の-OH基の吸収が現れた。沿面放電支援有りの時、その吸収スペクトルが減少していた。このことより沿面放電支援によって作製した酸化チタン膜は終端構造が少なく重合が進んでいると考えられる。