イオンビームにより界面制御したBSCC薄膜の再結晶化

抄録

イオン照射により非晶質化したBSCC薄膜の加熱再結晶化·超伝導化挙動について検討した。BSCC薄膜は、Bi:Sr:Ca:Cu=2:2:1:2の組成に調製したセラミックターゲットを用いたPLD法により、MgO及びSrTiO₃上に作製した。非晶質化は液体窒素で冷却しながら、O⁺イオンにより150keV, 60keVの2段階照射により、熱処理は空気中500℃∼850℃1時間で行った。結晶性は薄膜X線回折、伝導特性は4端子法により評価した。SrTiO₃基板上に形成した薄膜に非晶質化処理を加えることにより、その後の熱処理で、ゼロ抵抗温度が上昇し、BSCC薄膜の超伝導特性が向上した。