抄録
光造形法を用いて、マイクロ波に対するセラミック/高分子系フォトニック結晶(Pc)を作製した。エポキシ樹脂母相(低誘電率相)中において、CaTiO3粒子を分散させたポリエステル樹脂(高誘電率相)を格子としたダイヤモンド構造を形成した。特定周波数帯域の電磁波の遮断特性を明らかにするために、Pcの格子数や格子中のセラミック分散量増加によって生じる格子部の誘電率増加がフォトバンドギャップ(PBG)に及ぼす影響を調べた。また、格子部にCaTiO3粒子を30vol%分散したPcと40vol%分散したPcを重ね合わすことにより、2つのPBGが重なり、より広帯域のバンドが形成されることを確認した。