均一沈殿法による酸化セリウム膜の試作

抄録

アルミニウム製のフロー式反応装置を作製し、それを用いて均一沈澱法によりジルコニア基板への酸化セリウム膜の作製を行った。合成中は装置内電極間に任意の電圧をかけた。合成後の基板をX線回折によって調べた。これにより基板にできた膜は酸化セリウム結晶であり、電圧が高くなるほど強いピークを示したが、不純物も現れ、酸化セリウムと同様に電圧が高いほど不純物も強く現れた。