日本セラミックス協会 年会・秋季シンポジウム 講演予稿集
2003年年会講演予稿集
セッションID: 2D26
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ゾル-ゲル法によるハフニアゲル膜の低圧水銀灯による硬化
*西出 利一高橋 洋
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抄録
本研究は、ハフニアゲル膜に低圧水銀灯による紫外線を照射して、その硬化を調べることを目的とした。また、昇温脱離法(TPD)により薄膜の硬化プロセスについても調べた。水酸化ハフニウムを水中で加水分解してハフニアゾル液を作製した。ハフニアゲル膜に低圧水銀灯を用いて紫外線を照射した。また、ゲル膜およびそれに紫外線を照射した試料のTPDカーブを測定し、脱離物質を調べた。鉛筆硬度は、紫外線照射40分以上では照射直後(O日目)に9H以上の高硬度を示すことが分かった。ハフニアゲル膜および紫外線照射後のハフニア薄膜共に、430℃以下で脱離ガスによるTPDカーブが観測され、脱離種およびそのカーブ形状は類似していたが、紫外線照射後のそれらの強度は低かった。脱離種の主なものは、H2O (M/z=18)、CO(M/z=28)およびCO2(M/Z=44)であった。H2O のTPDカーブは、吸着水とHf─OHからの水の脱離によると考えられる。 COのTPDカーブは、240℃にピークを示し、Hfイオンに配位したギ酸イオンからの脱離と考えられる。CO2も同様であると考えられる。
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©  日本セラミックス協会 2003
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